Lieferung eines Plasmaunterstützten Atomlagenabscheidungssystems für das epitaktische Wachstum von Metallnitrid-Supraleitern, zweidimensionalen Materialien auf der Basis von Übergangsmetall-Dichalcogenid, topologischen Isolatoren, dielektrischen Oxiden und Übergangs- und Schwermetallen unter Verwendung einer induktiv gekoppelten Plasmaquelle und mehrerer Konfigurationen von Vorläufern und Plasmagasen, Substratheizbereich > 500°C