Diese Beschaffung umfasst ein höchstauflösendes Feldemissions-Rasterelektronenmikroskopie-System mit EDX- und EBSD-System mit optionalem TOF-SIMS, welche im Bereich der elektronenmikroskopischen Charakterisierung von metallischen, und keramischen Werkstoffsystemen sowie im Bereich der Mikroelektronik (Bulkmaterialien, dünne Schichten, sowohl polykristalline als auch monokristalline Werkstoffe (hier vorrangig beschichtete Si-Wafer) eingesetzt werden soll